覃攀
【姓名】 覃攀
【职称】
【研究领域】 物理学;化学;无机化工;
【研究方向】 化工设计与新材料制备工作
【发表文献关键词】 多晶硅,等离子体反应器,四氯化硅,一步法,西门子法,太阳能,等离子体技术,工艺流程,碳热还原法,单程转化率,区域熔炼,制备,生产工艺,选择性,氯化物,还原炉,硅烷法,实验装置,低成本,原料,
【工作单位】 四川大学
【曾工作单位】 四川大学;
【所在地域】 四川
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[1]黄志军;覃攀;吴青友;李育亮;王子松;尚书勇;戴晓雁;印永祥;.氢热等离子体还原四氯化硅制备三氯氢硅的能耗分析[J]硅酸盐学报.2011,(05)
[2]覃攀;徐慧远;龙华丽;冉祎;尚书勇;储伟;印永祥;戴晓雁;.常压高频放电等离子体炬改进制备CO_2/CH_4重整用Ni/MgO催化剂[J]催化学报.2011,(07)
[3]龙华丽;胡诗婧;徐艳;覃攀;尚书勇;印永祥;戴晓雁;.光辐照驱动CH_4-CO_2重整中Ni/MgO-Al_2O_3催化活性吸收体的活性[J]催化学报.2011,(08)
[4]王子松;黄志军;覃攀;雷雳光;印永祥;戴晓雁;.西门子CVD还原炉内硅棒生长环境的数值模拟[J]人工晶体学报.2012,(02)
[5]彭耀东;覃攀;冉祎;李育亮;尚书勇;印永祥;.西门子工艺制备多晶硅体系的热力学分析[J]河南化工.2012,(07)
[6]冉祎;兰天石;覃攀;戴晓雁;印永祥;.等离子体还原SiCl_4一步法制备多晶硅实验研究[J]人工晶体学报.2007,(04)
[7]覃攀;李祥;陶旭梅;冉祎;余徽;戴晓雁;印永祥;.热平衡等离子体热力学函数理论计算[J]核聚变与等离子体物理.2007,(04)
[8]覃攀;冉袆;兰天石;戴晓雁;印永祥;童洪辉;程昌明;.热等离子体射流温度与放电功率和气体流量的定标关系[J]核聚变与等离子体物理.2008,(01)
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