金薇
【姓名】 金薇
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 反应溅射法,连续沉积,CeO隔离层,NiW衬底,连续制,立方织构,半高宽,走带系统,薄膜,扫描电镜,制备,裂纹生成,反应气体,射线,面内取向,金属基底,上连续,氧化,超导层,扫描图,
【工作单位】 北京有色金属研究总院超导材料研究中心
【曾工作单位】 北京有色金属研究总院超导材料研究中心;
【所在地域】 北京
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[1]张华;金薇;刘慧舟;冯校亮;杨坚;.走带速率对Y_2O_3隔离层生长的影响[J]稀有金属.2009,(01)
[2]张华;刘慧舟;杨坚;金薇;杨玉卫;古宏伟;.反应溅射法连续制备CeO_2隔离层[J]低温物理学报.2007,(03)
[3]杨玉卫;杨坚;古宏伟;刘慧舟;张华;金薇;.类金刚石膜的性能、制备及其应用[J]硅酸盐通报.2008,(01)
[4]金薇;古宏伟;杨坚;张华;刘慧舟;杨玉卫;.直流反应溅射法制备Y_2O_3隔离层的研究[J]低温与超导.2008,(05)
[5]张华;金薇;刘慧舟;杨坚;.反应气体H_2O对Y_2O_3隔离层外延生长的影响[J]低温物理学报.2008,(04)
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