牛孝昊
【姓名】 牛孝昊
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 掺钨类金刚石薄膜,硬度,摩擦系数,等离子增强化学气相沉积,沉积速率,工艺条件,样品台,电源功率,制备与性能,沉积厚度,钨靶,等离子体,内应力,钨含量,掺入,耐磨镀层,摩擦磨损性能,功率沉积,射频电源,...
【工作单位】 北京科技大学
【曾工作单位】 北京科技大学;
【所在地域】 北京海淀
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[1]牛孝昊;罗庆洪;杨会生;陆永浩;熊小涛;王燕斌;.含钨类金刚石薄膜的制备与性能研究[J]真空.2007,(04)
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