郝振霞
【姓名】 郝振霞
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光刻掩膜,AZ光胶,聚碳酸酯,光化学改性,金微电极,选择性,高聚物,石英片,紫外光刻,化学镀,低压汞灯,紫外光辐照,安培检测,图形转移,制备,镀铬,紫外光谱研究,表面,正性,光源,
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 浙江杭州
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[1]孔泳;陈恒武;云晓;郝振霞;方肇伦;.光胶做挡光层的紫外光刻掩膜用于高聚物芯片表面选择性光化学改性[J]分析化学.2007,(05)
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