陶锋
【姓名】 陶锋
【职称】
【研究领域】 材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 CdS,纳米带,生长机理,过饱和度,快速升温,生长速度,透射电镜,场发射扫描电镜,制备,单晶结构,催化剂,高质量,带状结构,六方结构,沉积温度,沉积区,形貌,生长方向,沉积时间,分析显示,
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 安徽合肥
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[1]王志俊;陶锋;刘伟丰;姚连增;蔡维理;.快速升温法制备CdS纳米带的生长机理研究[J]无机材料学报.2006,(06)
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[1]陶锋.水热法中发光材料的形貌控制合成[D].中国科学技术大学.2007
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