闫剑锋
【姓名】 闫剑锋
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;无机化工;电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 化学镀铜,研究进展,机理,表面技术,预处理,还原剂,研究方向,黑化处理,非甲醛,活性物质,超声波,基体,应用与发展,聚酰亚胺,活化剂,环境污染,孔金属化,印刷线路板,铜工艺,次磷酸盐,
【工作单位】 中南大学
【曾工作单位】 中南大学;
【所在地域】 湖南长沙
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/6 3 3 1 95 3823
中国期刊全文数据库    共找到4篇
[1]李劼;闫剑锋;田忠良;赖延清;贾明;伊继光;刘业翔;.太阳级硅制备技术研究进展[J]材料导报.2009,(17)
[2]贾明;田忠良;赖延清;李劼;伊继光;闫剑锋;刘业翔;.电解精炼制备太阳级硅杂质行为研究[J]物理学报.2010,(03)
[3]李劼;闫剑锋;赖延清;田忠良;贾明;伊继光;.三层液电解精炼提纯冶金级硅研究[J]太阳能学报.2010,(08)
[4]田庆华;闫剑锋;郭学益;.化学镀铜的应用与发展概况[J]电镀与涂饰.2007,(04)
更多
中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]赖延清;伊继光;田忠良;贾明;闫剑锋;刘业翔;.基于三层液精炼的冶金硅电解提纯初探[A].第十届中国太阳能光伏会议论文集：迎接光伏发电新时代.2008-09-19
更多