何永
【姓名】 何永
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 BN-303光刻胶,前烘,显影,工艺参数,工艺条件,三维结构,表面形貌,微器件,光刻工艺,曝光时间,紫外光,掩蔽膜,烘焙温度,微电子技术,刻蚀,硅片,图形,优化,腐蚀液,涂胶,
【工作单位】 武汉理工大学
【曾工作单位】 武汉理工大学;
【所在地域】 湖北武汉
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[1]蒋玉荣;何永;李志伟;周建;欧阳世翕;.BN-303光刻胶前烘工艺对MEMS三维结构的影响[J]武汉理工大学学报.2007,(05)
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