金川
【姓名】 金川
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 交换偏置场,垂直磁各向异性,界面反应,Pt插层,多层膜,铁磁层,磁滞回线,反铁磁,插入,交换耦合,研究结果,调制周期,层厚度,变化规律,层界面,层时,理论模型,靠近,隔离层,减弱,
【工作单位】 北京科技大学
【曾工作单位】 北京科技大学;
【所在地域】 北京
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[1]付艳强;刘洋;金川;于广华;.Pt插层对Co/FeMn界面的影响[J]物理学报.2009,(11)
[2]张睿;刘洋;金川;于广华;.Pt/(Pt/Co)n/FeMn/Pt多层膜中Pt插层对交换偏置场的影响[J]真空科学与技术学报.2007,(04)
[3]金川;刘洋;李明华;于广华;.Pt插层对NiFe/FeMn薄膜交换耦合的影响[J]真空科学与技术学报.2008,(S1)
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[1]金川;刘洋;于广华;.Pt插层对NiFe/FeMn薄膜交换耦合的影响[A].TFC'07全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2007-08-01
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