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单成国
【姓名】
单成国
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
多晶硅,集成电路工艺,SEM,工艺问题,抗辐射加固,诊断,P-N结,侧壁,涂胶,硅化钛,晶向,电子科技,二氧化硅,研究所,氧化物,辽宁,利用,器件,HMDS处理,进行,
【工作单位】
中国电子科技集团第四十七研究所
【曾工作单位】
中国电子科技集团第四十七研究所;
【所在地域】
辽宁沈阳
学术成果产出统计表
今年新增
/文献篇数
核心期刊论文数
基金论文数
第一作者篇数
总被引频次
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文献数(该学者统计年度当年发文总文献数)
被引频次(该学者统计年度当年发文总被引频次)
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下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到1篇
[1]王嵩宇,单成国,孙伯森.
集成电路工艺问题的SEM诊断
[J]电子显微学报.2005,(04)
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中国重要会议全文数据库
共找到1篇
[1]王嵩宇;单成国;孙伯森;.
集成电路工艺问题的SEM诊断
[A].2005年全国电子显微学会议论文集.2005-06-30
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