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王寿山
【姓名】
王寿山
【职称】
【研究领域】
有机化工;金属学及金属工艺;
【研究方向】
电子材料
【发表文献关键词】
引线框架材料,铜合金,氧化失效,电镀条件,电子封装,氧化膜厚度,结合强度,铜镀层,铜层厚度,临界值,抗剥离性,氧化速率,膜结构,耐氧化,重大影响,合金表面,样品,氧化膜组成,铜离子,抗氧化,
【工作单位】
上海交通大学
【曾工作单位】
上海交通大学;
【所在地域】
上海
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到1篇
[1]王寿山;胡安民;李明;沈宏;毛大立;.
铜镀层对IC引线框架表面抗氧化失效的作用
[J]上海交通大学学报.2007,(S2)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库
共找到1篇
[1]王寿山.
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