董加和
【姓名】 董加和
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 基于ZnO
【发表文献关键词】 镜像阻抗连接结构,传递矩阵,声表面波滤波器,建模与仿真,氧化锌薄膜,磁控溅射,氧分压,择优取向,射频磁控溅射法,衬底温度,射频功率,氧氩比(V(O2)/V(Ar)),声表面波器件,溅射功率,机电耦合系...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 四川成都
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[1]陈祝;张树人;杨成韬;陈富贵;董加和;王升;.RF溅射ZnO薄膜工艺与结构研究[J]电子元件与材料.2006,(07)
[2]董加和;杨成韬;.镜像阻抗连接声表面波滤波器建模与仿真[J]系统仿真学报.2007,(04)
[3]郑泽渔;张树人;杨成韬;钟朝位;董加和;孙明霞;刘敬松;.射频磁控溅射制备声表面波器件用ZnO薄膜[J]压电与声光.2007,(01)
[4]陈祝;张树人;杜善义;杨成韬;陈富贵;董加和;孙明霞;.c轴择优取向ZnO薄膜RF溅射工艺研究[J]压电与声光.2007,(03)
[5]董加和;杨成韬;郑泽渔;李健雄;张树人;.基于ZnO/金刚石/Si结构的瑞利波频散特性计算[J]电子科技大学学报.2007,(05)
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