金沈贤
【姓名】 金沈贤
【职称】
【研究领域】 电力工业;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】 磁记录材料
【发表文献关键词】 钴铁氧体,锰掺杂,磁性能,介电性能,饱和磁化强度,矫顽力,介电常数,介电损耗,电阻率,掺量,振动样品磁强计,粉体材料,单相尖晶石结构,烧结温度,减小,晶粒尺寸,频率,应力传感器,晶格常数,电子交换,
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 成都
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[1]金沈贤;钟智勇;张怀武;.锰掺杂钴铁氧体粉体的磁性能和介电性能[J]硅酸盐学报.2007,(07)
[2]金沈贤;钟智勇;张怀武;.高矫顽力CoFe_2O_4薄膜的研究进展及矫顽力机理分析[J]磁性材料及器件.2007,(05)
[3]金沈贤;钟智勇;唐晓莉;荆玉兰;张怀武;.TbFeCo缓冲层对钴铁氧体薄膜的微观结构和磁性能影响[J]硅酸盐学报.2008,(11)
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[1]金沈贤.缓冲层对钴铁氧体薄膜结构和性能影响[D].电子科技大学.2008
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[1]金沈贤;钟智勇;任学恒;张怀武;.Fe_3O_4缓冲层对CoFe_2O_4薄膜磁性能的影响[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（3）.2007-11-01
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