郑泽渔
【姓名】 郑泽渔
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 压电薄膜材料研究
【发表文献关键词】 射频磁控溅射法,氧化锌薄膜,射频功率,氧氩比(V(O2)/V(Ar)),衬底温度,声表面波器件,溅射功率,结晶质量,薄膜结构,频率响应特性,机电耦合系数,扫描力显微镜,溅射制备,结构性能,中心频率,薄...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 四川成都
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[1]孙明霞;钟朝位;张树人;张万里;陈祝;郑泽渔;.循环间歇溅射工艺对PLT薄膜性能的影响[J]压电与声光.2006,(01)
[2]陈祝;张树人;杜善义;杨成韬;郑泽渔;李波;孙明霞;.ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究[J]无机材料学报.2006,(04)
[3]郑泽渔;张树人;杨成韬;钟朝位;董加和;孙明霞;刘敬松;.射频磁控溅射制备声表面波器件用ZnO薄膜[J]压电与声光.2007,(01)
[4]董加和;杨成韬;郑泽渔;李健雄;张树人;.基于ZnO/金刚石/Si结构的瑞利波频散特性计算[J]电子科技大学学报.2007,(05)
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