赵作峰
【姓名】 赵作峰
【职称】
【研究领域】 材料科学;自动化技术;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 SnO_2薄膜,Sol-Gel工艺,单壁碳纳米管,碳纳米管,掺杂,XRD分析,CVD,脆性参数m,大块非晶,Sol-Gel法,气敏传感器,催化机制,电阻率,K掺杂,催化剂的厚度,玻璃转变,热灯丝CVD...
【工作单位】 重庆大学
【曾工作单位】 重庆大学;
【所在地域】 重庆
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[1]王必本,王万录,赵作峰,刘高斌,王永田,CHOI Seungho.催化剂厚度对碳纳米管直径的影响[J]重庆大学学报(自然科学版).2003,(07)
[2]赵作峰,张志,李正,闻平,赵德乾,潘明祥,王万录,汪卫华.新型Pr基大块非晶及其特性研究[J]物理学报.2004,(03)
[3]秦友兰,王万录,赵作峰,肖金龙,董玉峰.用Sol-Gel法制备气敏传感器SnO_2薄膜的研究[J]广西师范大学学报(自然科学版).2000,(03)
[4]崔玉亭,王万录,廖克俊,刘高斌,赵作峰.镍粒子在单壁碳纳米管生成中的催化机制[J]重庆大学学报(自然科学版).2002,(08)
[5]李勇,胡陈果,赵作峰,王万录.碳纳米管的K掺杂[J]重庆大学学报(自然科学版).2002,(08)
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