张兴元
【姓名】 张兴元
【职称】 工程师;
【研究领域】 工业通用技术及设备;化学;材料科学;
【研究方向】 功能材料实验教学与研究
【发表文献关键词】 结构,光电特性,ZAO薄膜,射频磁控溅射,工艺参数,氮化钛薄膜,表面形貌,多晶态,磁控溅射工艺,TiO2-Ag薄膜,光催化反应,亚甲基蓝,罗丹明B,RF磁控溅射,铝掺杂,直流磁控溅射,磁控溅射,薄膜特...
【工作单位】 重庆大学
【曾工作单位】 重庆大学;
【所在地域】 重庆
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[1]张兴元;江四川;杨辉;张义豪;黄佳木;.制备工艺参数对镁合金表面沉积TiCN薄膜耐蚀性的影响[J]材料导报.2013,(18)
[2]张兴元;何国庆;刘园园;黄佳木;.JGP-560B磁控溅射仪基片台的改进[J]实验室研究与探索.2013,(12)
[3]张兴元;严薇;黄佳木;万朝均;覃丽禄;.发挥专业实验室的支撑作用 培养材料本科创新人才[J]实验技术与管理.2013,(06)
[4]黄佳木;赵磊;蔡小平;张兴元;.非晶态TiO_2-Ag薄膜的光催化性能研究[J]功能材料.2007,(07)
[5]黄佳木;王亚平;张兴元;.纳米氮化锆薄膜的光学性能研究[J]太阳能学报.2007,(12)
[6]黄佳木,董建华,张兴元.工艺参数对RF磁控溅射沉积铝掺杂氧化锌薄膜特性的影响[J]材料科学与工程学报.2003,(02)
[7]黄佳木,董建华,张兴元.室温溅射沉积ZnO:Al薄膜的工艺[J]重庆大学学报(自然科学版).2004,(04)
[8]黄佳木,徐成俊,张兴元,王亚平.室温直流磁控溅射氮化钛薄膜研究[J]真空科学与技术学报.2005,(04)
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