刘云峰
【姓名】 刘云峰
【职称】
【研究领域】 冶金工业;无线电电子学;口腔科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 印制电路板,胶体钯,ζ电位,回收金属Pd,酸性镀铜液,添加剂,孔金属化,深镀能力,香草醛,均镀能力,稀释比,亚甲基蓝,染料,回收率,电位值,钯溶液,加热,稳定性,罗丹明,王水,
【工作单位】 中南大学
【曾工作单位】 中南大学;
【所在地域】 湖南长沙
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/5 1 3 1 46 892
中国期刊全文数据库    共找到4篇
[1]李小斌;徐华军;刘桂华;彭志宏;周秋生;刘云峰;.氧化铝熟料溶出过程中SiO_2的行为[J]过程工程学报.2006,(03)
[2]陈滨;谭培龙;吴晓华;刘云峰;.添加剂对均匀沉淀法制备Al(OH)_3微粉形貌的影响[J]稀有金属与硬质合金.2006,(02)
[3]吴晓华;陈滨;李小斌;刘云峰;冯港涛;.表面活性剂强化铝酸钠溶液晶种分解的研究进展[J]江西有色金属.2006,(02)
[4]吴晓华;陈滨;潘军;刘云峰;冯港涛;.印制电路板孔金属化相关研究[J]稀有金属与硬质合金.2006,(03)
更多
中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇