王计川
【姓名】 王计川
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 吸除,剥层,本征,纵向浓度分布测定,刻蚀,掩模,中子活化分析,刻蚀速率,单晶硅,堆中子,活化分析,刻蚀面,刻蚀时间,纵向分布,刻蚀剂,样片,模具法,吸杂,掩模法,厚度偏差,浓度分布,金属杂质,内辐照,...
【工作单位】 中国原子能科学研究院
【曾工作单位】 中国原子能科学研究院;
【所在地域】 北京
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[1]文希孟,高秀清,陈炳贤,王计川.掩模、刻蚀剥层-堆中子活化分析法测定硅片中金的纵向分布[J]核化学与放射化学.1985,(02)
[2]高秀清,文希孟,陈炳贤,王计川.优质吸除硅片本征吸除能力的研究[J]核技术.1985,(06)
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