张红霞
【姓名】 张红霞
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金刚石膜,异质结,离子注入,硼离子,p-n结,硅基底,n型,注入能量,异质结效应,硼离子注入,I-V特性,英文,离子注入机,Si衬底,热丝,化学气相沉积,多晶,均匀分布,理工大学,物理研究所,
【工作单位】 中国科学院物理研究所
【曾工作单位】 中国科学院物理研究所;
【所在地域】 北京
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[1]孙秀平,冯克成,李超,张红霞,费允杰.在n型硅基底上二次注入硼离子金刚石膜的p-n结效应(英文)[J]半导体学报.2005,(06)
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