王飞凌
【姓名】 王飞凌
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 铝层,基片温度,磁控溅射沉积,性能研究,溅射沉积,发灰,接触电阻,引线孔,欧姆接触,溅射,合金化,交错结构,欧姆接触电阻,沉积速率,发铝,大晶粒,复盖,晶粒,电子衍射,俄歇能谱,
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】
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[1]赵克宣,王飞凌.磁控溅射沉积铝层及其性能研究[J]微细加工技术.1985,(03)
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