茅东升
【姓名】 茅东升
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 SiC陶瓷,冲蚀磨损,金刚石薄膜,进展,无氢非晶金刚石薄膜,电子场发射性能,电子场发射,力学性能,表面功函数,界面,sp3键,组织结构,非晶金刚石薄膜,陶瓷,电子发射性能,金刚石粉末,SP2键,接触势...
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]周江云,徐静芳,茅东升,柳襄怀.金刚石粉末淀积层的场发射特性研究[J]发光学报.2000,(04)
[2]周江云,李琼,徐静芳,茅东升,柳襄怀.SP~2键含量对非晶金刚石膜电子场发射性能的影响[J]华东师范大学学报(自然科学版).2000,(02)
[3]范忠,李琼,徐静芳,茅东升.单片Si-FED的结构和设计[J]半导体技术.2001,(05)
[4]李炜,茅东升,张福民,王曦,柳襄怀,邹世昌,诸玉坤,李琼,徐静芳.离子束溅射制备ZnO:Zn荧光薄膜[J]材料研究学报.2001,(01)
[5]范忠,李琼,徐静芳,郭方敏,茅东升.提高FEA电子发射可靠性和均匀性的几种结构[J]微细加工技术.2002,(01)
[6]茅东升,赵俊,李炜,王曦,柳襄怀,诸玉坤,李琼,徐静芳.高sp~3键含量无氢非晶金刚石薄膜——出色的电子场发射材料[J]中国科学E辑:技术科学.1999,(01)
[7]茅东升,赵俊,李炜,王曦,柳襄怀,诸玉坤,范忠,周江云,李琼,徐静芳.界面过渡层对非晶金刚石薄膜电子场发射性能的影响[J]中国科学E辑:技术科学.1999,(06)
[8]茅东升,郭绍义,郦剑,毛志远,柳襄怀.SiC陶瓷的冲蚀磨损耐磨性[J]材料研究学报.1998,(04)
[9]茅东升,赵俊,李炜,王曦,柳襄怀,诸玉坤,周江云,范忠,李琼,徐静芳.金刚石薄膜电子场发射研究进展[J]材料导报.1998,(06)
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中国博士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]茅东升.无氢非晶金刚石薄膜的制备及其电子场发射性能研究[D].中国科学院上海冶金研究所.2000
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[1]茅东升;王曦;李炜;柳襄怀;.金刚石薄膜电子场发射研究进展[A].华东三省一市第三届真空学术交流会论文集.2000-06-01
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