林梓辛
【姓名】 林梓辛
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硼离子注入,驻极体,氮化硅薄膜,薄膜驻极体,内应力,Si_3N_4,表面电位,力学性能,电荷,电荷储存,驻极,张应力,化学表面修正,驻极体薄膜,电传感器,离子注,衰减曲线,环境湿度,固体物理,振膜,
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]张晓青,夏钟福,潘永刚,张冶文,李宝清,林梓辛.硼离子注入对硅基Si_3N_4薄膜驻极体性质的影响及力学性能的改善[J]应用科学学报.2000,(03)
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