黄焕章
【姓名】 黄焕章
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅化结,Verilog-HDL工具,CADENCE环境,硅化物,ASIC,Verilog-HDL,Verilog,ASIC设计,Cadence,散出,杂质,注入损伤,形成方法,杂质注入,布局布线,开关...
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]黄焕章，张敏.硅化结形成技术[J]半导体技术.1996,(05)
[2]须国宗,梁洪昌,黄焕章.Verilog-HDL在数字ASIC设计上的应用[J]微处理机.1996,(01)
[3]胡旭宏，张敏，俞波，黄焕章.高性能BiCMOS制造技术及I/O电路优化[J]电子学报.1998,(02)
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