顾隆道
【姓名】 顾隆道
【职称】 高级工程师;
【研究领域】 物理学;无线电电子学;计算机软件及计算机应用;
【研究方向】
【发表文献关键词】 外延膜,滞流层,外延,光吸收,硅烷,生长速率,微波吸收材料,衬底取向,结晶质量,硅膜,计算机辅助微波测量,模式识,吸收因子,气相淀积,半导体性能,吸收涂层,复磁导率,漫反射,电磁参数,计算机辅助设计,...
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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中国期刊全文数据库    共找到6篇
[1]沈秀英,郑戟,顾隆道,李佩芝.微波吸收材料电磁参数的计算机辅助测量[J]电子科学学刊.1994,(03)
[2]吴铸，刘洪霖，孟传奎，顾隆道，陈念贻.一种微波吸收涂层的计算机辅助设计新方法[J]功能材料与器件学报.1995,(01)
[3]章熙康,顾隆道.SOS外延膜的光吸收研究[J]半导体学报.1982,(03)
[4]章熙康,顾隆道,王其闵.硅的气相淀积的滞流层效应[J]中国科学(B辑 化学 生物学 农学 医学 地学).1985,(11)
[5]章熙康,顾隆道.硅烷外延生长速率和衬底取向的关系[J]应用科学学报.1988,(01)
[6]顾隆道;徐海根;金大康;.静电复印用铁氧体球形载体(Ⅰ)[J]粉末冶金技术.1989,(04)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]顾隆道;罗荣芳;孟传奎;金大康;.微细铁粉的研制[A].第四届全国颗粒测试学术会议暨第三届全国超微颗粒学术讨论会论文集.1995-04-01
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