陈益清
【姓名】 陈益清
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 台面,化学腐蚀法,表面电场,击穿电压,制造方法,管芯,磨角,半导体器件,Pn结,台面结构,pn结,本法,负斜角,开特,开槽设备,高压功率器件,耗散功率,超功率,表面击穿,电老化,
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】
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[1]何德湛,陈益清.台面型半导体器件的制造方法[J]物理.1992,(04)
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