Chen
【姓名】 Chen
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 化学机械抛光,ULSI,研究与展望,抛光液,特大规模集成电路,平坦化,抛光机理,化学机械,高成品率,抛光技术,模型及应用,坦化,半导体薄膜,微细化,半导体行业,特征尺寸,高平,应用广泛,发展现状,低成...
【工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;
【所在地域】 上海
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[1]张楷亮,宋志棠,封松林,Chen Bomy.ULSI化学机械抛光的研究与展望[J]微电子学.2005,(03)
[2]张楷亮,宋志棠,封松林,Chen Bomy.ULSI关键工艺技术——纳米级化学机械抛光[J]微纳电子技术.2005,(07)
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