周莹
【姓名】 周莹
【职称】
【研究领域】 计算机硬件技术;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 高密度光
【发表文献关键词】 高密度光存储,蓝光,无机相变材料,光存储材料,光存储,蓝光光盘,蓝光存储,可录光盘,无机记录材料,存储原理,研究进展,写策略,BD-RE,光盘存储技术,无机材料,可录型光盘,存储密度,光存储系统,氧化...
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】 上海
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[1]周莹;耿永友;顾冬红;.用于蓝光可录存储的无机材料研究进展[J]材料科学与工程学报.2006,(05)
[2]周莹;耿永友;顾冬红;.高密度蓝光存储的写策略[J]光电技术应用.2006,(05)
[3]蒋志;耿永友;顾冬红;周莹;翟凤潇;.氧化物记录介质在光存储中的应用及其研究进展[J]激光与光电子学进展.2007,(08)
[4]周莹,袁筱先.新一代无机相变光存储材料研究进展[J]信息记录材料.2005,(03)
[5]周莹;耿永友;顾冬红;.热致NiO_x薄膜的结构和光学性质变化[J]中国激光.2007,(01)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]周莹;耿永友;顾冬红;.反应磁控溅射法制备的NiO_x薄膜的结构及光学性能研究[A].中国光学学会2006年学术大会论文摘要集.2006-09-01
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