席明霞
【姓名】 席明霞
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 激光化学反应镀膜研究
【发表文献关键词】 PbS膜,消融,等离子体羽,反应淀积,脉冲激光淀积,XPS研究,硫化铅,淀积膜,真空室,淀积技术,气压,基片温度,激光辐照,脉冲激光,淀积过程,精密机械,reactive,准分子,激光淀积,核化,
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】 上海
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[1]席明霞,武四新,郑隽,吴正亮,李缙,赵国珍,曹基文.反应脉冲激光淀积硫化铅膜的SEM和XPS研究[J]量子电子学报.1997,(05)
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