刘超
【姓名】 刘超
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 Ge2Sb2Te5薄膜,相变材料,光存储,短波长,静态性,静态记录,反射率对比度,反射率,光盘记录介质,相变,静态性能,静态测试仪,膜的制备,薄膜材料,写入功率,记录特性,相变光盘,直接重写,擦除,溅...
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】
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[1]刘超,姜复松,范正修,蒋模光,蒲惠萍,门丽秋.短波长相变光盘记录介质Ge_2Sb_2Te_5薄膜的制备及静态性能研究[J]光学学报.1996,(10)
[2]门丽秋,姜复松,刘超,干福熹.GeSb_2Te_4相变光存储薄膜材料的短波长静态记录特性的研究[J]光学学报.1997,(01)
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