王占会
【姓名】 王占会
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 C60,自组装单分子膜,摩擦特性,微电子机械系统,自组装,摩擦特,单分子,膜的制备,摩擦系数,硅基底,摩擦,微型机械,层膜,单晶硅表面,摩擦学性能,陶瓷球,单分子膜,化学键结合,水接触角,润滑作用,
【工作单位】 中国科学院力学研究所
【曾工作单位】 中国科学院力学研究所;
【所在地域】 北京
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[1]任嗣利,赵亚溥,杨生荣,孟永宏,王占会.C_(60)自组装单分子膜的制备及其摩擦特性[J]机械强度.2001,(04)
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