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【姓名】	孙树门
【职称】
【研究领域】	化学;有机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】	齐聚物,缩聚物,5-氟脲嘧啶,二氧,慢释放,5一Fu,低温辐射聚合,聚硅氧烷,哌嗪,聚合物,丙烷,释放速率,乙烷,低聚物,释放时间,HEMA,硅氧,二乙胺基,水解稳定性,缩聚度,二取代,四硅氧烷,三硅...
【工作单位】	中国科学院化学研究所
【曾工作单位】	中国科学院化学研究所;
【所在地域】	北京

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[1]曹怡;孙树门;王葆仁;.甲基和苯基乙氧基硅烷的一步合成[J]化学学报.1961,(01)

[2]朴爱植;徐广智;孙树门;.二甲基二氯硅烷与二甲基环硅氧烷反应的研究[J]化学学报.1982,(04)

[3]孙树门;李平;谢祖(王寿);朴爱植;.2,4,6-三甲基-2,4,6-叁(3′3′3′-三氟丙基)环三硅氧烷的简便制备法[J]化学学报.1982,(06)

[4]朴爱植,孙树门.含5-氟脲嘧啶齐聚物的合成[J]高分子通讯.1983,(01)

[5]朴爱植;刘子中;孙树门;.有机硅树脂固化的研究[J]绝缘材料通讯.1983,(02)

[6]朴爱植;刘子中;孙树门;.有机硅树脂固化的研究[J]绝缘材料通讯.1983,(Z1)

[7]朴爱植,孙树门.含5-氟脲嘧啶的聚硅氧烷的合成[J]高分子通讯.1984,(01)

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