常威
【姓名】 常威
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 PECVD,介电性,氮化硅,介质膜,击穿强度,射频功率,介电常数,衬底温度,沉积条件,薄膜电致发光器件,介质层,硅薄膜,电学性能,介质薄膜,氮化,等离子体化学,介电性质,密度,气相沉积,电致发,
【工作单位】 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
【曾工作单位】 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;
【所在地域】
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[1]崔翔天，楚振生，高鹏涛，王志军，常威，郑喜凤，孟宪信.PECVD介质膜性能研究[J]发光学报.1996,(03)
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