张世华
【姓名】 张世华
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光刻胶,X射线光刻,等离子刻蚀,刻蚀速率,204胶,顶层胶,纵宽比,X射线,平行板,中间层,三层结构,胶厚,X射线光刻胶,底层,垂直壁,干法刻蚀,灵敏度,甩胶,形貌,三层材料,
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】
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[1]顾柏春;邓弼兴;张世华;.远紫外曝光[J]微电子学与计算机.1981,(04)
[2]顾柏春,王玉玲,邓弼兴,张世华.X射线光刻用的三层光刻胶[J]微细加工技术.1984,(01)
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