胥兴才
【姓名】 胥兴才
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 离子束刻蚀,刻蚀技术,金属膜,干法,反应气体,反应室,氧分压,模转换,x射线,Ar离子,气相,选择比,坚膜,精细图,中国科学院,互连线,选择输入,集成电路生产,掩模图,光刻技术,电接触,硅器件,扫描电...
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】
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[1]韩阶平,吕秀英,杨占坤,胥兴才.一种新的金属膜干法刻蚀技术[J]半导体学报.1980,(03)
[2]金维新,孟宪光,尤大伟,胥兴才.反应离子束刻蚀及其应用[J]半导体学报.1983,(01)
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