左键
【姓名】 左键
【职称】
【研究领域】 物理学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 多孔硅,K-Mo/γ-Al_2O_3催化剂,钾助剂,电镀,表面物种,染料分子,吸附性质,表面增强Raman散射,表面增强,Mo/γ-Al_2O_3,硫化态,若丹明B,催化剂,Raman散射,作用物,吸...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 安徽合肥
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[1]王冠中,叶峰,常超,马玉蓉,左键,方容川.多孔硅表面Ag层对吸附其上的若丹明B染料分子表面增强Raman散射的影响[J]发光学报.1999,(03)
[2]卞国柱,姜明,伏义路,许存义,左键.K-Mo/γ-Al_2O_3催化剂的表面物种和吸附性质[J]分子催化.1993,(03)
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