周一峰
【姓名】 周一峰
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅化物,金属-半导体,芯能级,界面反应,混相,Si界面,态密度,3d过渡金属,Cr原子,覆盖度,铬硅,拖尾,结合能变化,突变界面,离化截面,亚壳层,原子级清洁,电子结构,阻挡层,金属膜,
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 0 1 0 3 80
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]丁孙安,许振嘉,李宝骐,周一峰.铬硅化物的形成及其界面反应[J]半导体学报.1990,(12)
更多