郑可炉
【姓名】 郑可炉
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 微电子机械系统中PZT薄膜的刻蚀技术研究和其他MEMS材料的刻蚀技术研究
【发表文献关键词】 湿法刻蚀,PZT薄膜,微图形化,PZT铁电薄膜,钛酸铅,刻蚀液,技术研究,侧蚀,刻蚀速率,NH4Cl,光刻胶,面倾角,图形表,底电极,MEMS,残留物,效果影响,体积比,选择性,效果良好,
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 安徽合肥
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[1]郑可炉,褚家如,鲁健,李恒.PZT铁电薄膜湿法刻蚀技术研究[J]压电与声光.2005,(02)
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