孙贤开
【姓名】 孙贤开
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 ZnO薄膜,异质外延,SiC薄膜,低压MOCVD,两步法常压CVD,光致发光特性,发光机制,拉曼光谱,LP-MOCVD,退火温度,择优取向,发光带,发光中心,峰值波长,一步法,硅基片,生长,异质结,张...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]傅竹西;孙贤开;朱俊杰;林碧霞;.应力对ZnO/Si异质结构的光致发光的影响(英文)[J]半导体学报.2006,(02)
[2]孟祥东;林碧霞;洪亮;朱俊杰;孙贤开;徐瑾;傅竹西;.CVD两步法生长ZnO薄膜及其光致发光特性[J]发光学报.2006,(05)
[3]朱俊杰,林碧霞,孙贤开,郑海务,姚然,傅竹西.硅基片上异质外延SiC的机理研究(英文)[J]人工晶体学报.2004,(04)
[4]孙贤开,林碧霞,朱俊杰,张杨,傅竹西.LP-MOCVD异质外延ZnO薄膜中的应力及对缺陷的影响[J]物理学报.2005,(06)
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