孙军
【姓名】 孙军
【职称】
【研究领域】 仪器仪表工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 离子束刻蚀,Ronchi光栅,位相型Ronchi光栅,位相型,国家同步辐射实验室,光栅,中国科学技术大学,紫外光刻,掩模版,衍射特性,光栅形状,光栅图形,光刻胶,缺级,二元光学,位相差,衍射图样,光强...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]毕晓川,孙光宇,孙军,洪义麟,徐向东,霍同林,付绍军,张新夷.离子束刻蚀正交位相型Ronchi光栅研究[J]量子电子学报.1999,(04)
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