赖祖武
【姓名】 赖祖武
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;核科学技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 TiN薄膜,飞行时间法,深度分布,TIN薄膜,氚靶,质子束,离子束增强沉积,离子轰击,增强沉积,离子束,工艺方法,基质材料,深度分辨,中子,溅射,靶厚,离子束增强,飞行时间谱,应用电子,IBED,溅射...
【工作单位】 中国工程物理研究院应用电子学研究所
【曾工作单位】 中国工程物理研究院应用电子学研究所;
【所在地域】 成都
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/2 1 0 0 8 141
中国期刊全文数据库    共找到2篇
[1]向伟,赖祖武,罗四维,方仁昌,李文治.离子束增强沉积TiN薄膜的研究[J]真空科学与技术.1998,(04)
[2]李景德,谢大全,陈淑英,王基铭,石磊,赖祖武.用飞行时间法测量氚的深度分布[J]核技术.1987,(07)
更多