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王应中
【姓名】
王应中
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
硫化锌,光学介质膜,增透膜,扫描电子显微镜,柱状结构,表面形貌,光学显微镜,制备工艺,干涉仪,工艺条件,实验数据,单晶片,微观结构,闪锌矿结构,膜层厚度,蒸镀膜,晶体结构,机械强度,高强度,红外技术,...
【工作单位】
中国兵器工业集团昆明物理研究所
【曾工作单位】
中国兵器工业集团昆明物理研究所;
【所在地域】
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共找到3篇
[1]唐家钿,余菊仙,董先庆,王应中.
高强度硫化锌增透膜的结构分析
[J]红外技术.1985,(04)
[2]唐家钿,余菊仙,董先庆,王应中.
高强度硫化锌光学介质膜的表面与断面形态观察
[J]红外技术.1985,(05)
[3]唐家钿;曾光丽;苏培超;王应中;徐国枢;莫威;.
Y-Ba-Cu氧化物高温超导体的X射线衍射分析
[J]红外技术.1988,(03)
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