吕春华
【姓名】 吕春华
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;仪器仪表工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 微结构,微制备,SU-8,微流控芯片,高深宽比,电铸,镍阳模,SU-8光刻胶,曝光剂量,光刻掩模,聚甲基丙烯酸甲酯,电流密度,光胶,高聚物,导电玻璃,微通道,电解刻蚀,接触式曝光法,加工技术,导电性,...
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 浙江杭州
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[1]吕春华;殷学锋;刘东元;方肇伦;.高深宽比SU-8微结构的简易加工技术[J]浙江大学学报(工学版).2006,(08)
[2]吕春华;殷学锋;陆平;.高聚物微流控芯片镍阳模的简易加工技术[J]分析化学.2007,(05)
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[1]吕春华;殷学锋;刘东元;方肇伦;.用反面曝光法加工高深宽比SU-8微结构[A].第三届全国微全分析系统学术会议论文集.2005-10-01
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