李剑光
【姓名】 李剑光
【职称】 讲师;
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】 半导体薄膜研究
【发表文献关键词】 清洗工艺,表面化学,直流反应磁控溅射,超高真空,辐射传热,ZnO薄膜,化学气相沉积,表面沾污,清洗效果,试验设计法,化学清洗,磁控,硅材料,电阻丝,硅表面,辐射加热,物理基础,沾污量,低温外延,杂质氧...
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 杭州
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/7 7 3 4 111 1198
中国期刊全文数据库    共找到7篇
[1]李剑光,叶志镇,汪雷,赵炳辉,袁骏,阙端麟.用于制备GaN的硅基ZnO过渡层的高温热处理研究[J]半导体学报.1999,(10)
[2]李剑光,汪雷,叶志镇,赵炳辉,袁骏.ZnO薄膜的晶体性能的分析[J]真空科学与技术.1999,(05)
[3]叶志镇，姜小波，袁骏，李剑光.超净硅片表面化学清洗工艺的优化研究[J]半导体学报.1996,(05)
[4]李剑光，叶志镇，赵炳辉，袁骏.硅基上直流反应磁控溅射沉积优质ZnO薄膜及其性能研究[J]半导体学报.1996,(11)
[5]曹青，叶志镇，陈伟华，张侃，赵炳辉，李剑光.3″硅片CVD外延电阻丝辐射加热物理基础及升温瞬态过程分析[J]浙江大学学报(自然科学版).1996,(04)
[6]李剑光,叶志镇,赵炳辉.氧化锌薄膜研究进展[J]材料科学与工程.1997,(02)
[7]叶志镇,曹青,张侃,陈伟华,汪雷,李先杭,赵炳辉,李剑光,卢焕明.UHV/CVD低温生长硅外延层的性能研究[J]半导体学报.1998,(08)
更多