董争
【姓名】 董争
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 失效分析、电连接,XPS,碳δ掺杂,MOVPE,电连接器,霍耳测试,TMAl,镓铝砷,超晶格,砷化镓,δ掺杂,多层外延,能谱,铜基体,高可靠,空穴浓度,腐蚀性气,化学状态,腐蚀产物,局部电池,迁移率,...
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 浙江杭州
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[1]董争,黄力平,王英姿,姚奎鸿,G.Li.Cδ掺杂Al_xGa_(1-x)A_s多层外延与超晶格的MOVPE生长及其霍耳评估[J]浙江大学学报(工学版).2000,(05)
[2]李刚,汪雷,袁骏,俞健,董争.高可靠电连接器腐蚀表面的能谱研究[J]机电元件.1990,(02)
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