陈树义
【姓名】 陈树义
【职称】 工程师;
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 近距离升华,薄膜,XRD,CdTe薄膜,电导,共溅射,CdTe,CdS(Se)薄膜,CdO成份,晶界电阻,近距离升华(CSS)技术,光电性能,掺杂,制备,薄膜装置,光谱特性,掺Nd,电导性,Cu薄膜,...
【工作单位】 新疆大学
【曾工作单位】 新疆大学;
【所在地域】 乌鲁木齐
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[1]李锦,郑毓峰,戴康,徐金宝,陈树义.近距离升华制备CdTe掺Te薄膜的结构与电性能研究[J]无机材料学报.2003,(01)
[2]陈树义,郑毓峰,简基康,李东来,马忠权.近距离升华薄膜装置的研制及特性[J]新疆大学学报(理工版).2001,(04)
[3]郑毓峰,陈树义,李锦,简基康,李冬来,马忠权,常爱民.共溅射CdTe掺Nd薄膜的结构和电导性能[J]新疆大学学报(自然科学版).2002,(01)
[4]郑毓峰,马忠权,李锦,孙言飞,陈树义.CdS(Se)掺 Cu薄膜的相结构和光电性能(英文)[J]新疆大学学报(自然科学版).2002,(02)
[5]李锦,郑毓峰,徐金宝,孙严飞,陈树义.CdTe薄膜的制备方法比较及其结构性能研究[J]功能材料.2002,(05)
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