K.K.Mak
【姓名】 K.K.Mak
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 类DX中心,宽禁带-族半导体,分子束外延,Al掺杂,分子束外延生长,n型,DX中心,香港科技大学,物理系,香港,光激发截面,光离化,瞬态谱,晶格弛豫,深能级,宽禁带,合同号,半导体,半导,光电导,
【工作单位】 香港科技大学
【曾工作单位】 香港科技大学;
【所在地域】 九龙
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[1]卢励吾,张砚华,K.K.Mak,Z.H.Ma,J.Wang,I.K.Sou,Wei kun Ge.分子束外延生长Al掺杂n型ZnS_(1-x)Tex的类DX中心[J]半导体学报.2001,(02)
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