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温作新
【姓名】
温作新
【职称】
【研究领域】
化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
多孔硅,光致发光,表面形貌,两步法,恒电流法,流法,脉冲电,表征,英文,福建厦门,厦门大学,化学系,化学氧化,拉曼光,硝酸溶液,光致发光强度,十六碳烯,光学性质,紫外光照,物理化,多孔层,光致发光谱,...
【工作单位】
厦门大学
【曾工作单位】
厦门大学;
【所在地域】
福建厦门
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共找到2篇
[1]程璇,刘峰名,林昌健,温作新,田中群,薛茹.
两步法制备多孔硅及其表征I:恒电流法(英文)
[J]电化学.2000,(04)
[2]程璇,刘峰名,温作新,林昌健,田中群,薛茹.
两步法制备多孔硅及其表征II :脉冲电流法(英文)
[J]电化学.2001,(01)
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薛茹
厦门大学
2
林昌健
厦门大学
2
田中群
厦门大学
2
程璇
厦门大学
2
刘峰名
厦门大学
2
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