刘文婷
【姓名】 刘文婷
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 功能薄膜材料的研究工作
【发表文献关键词】 蓝宝石衬底,增透,CVD金刚石,氧化现象,SiO_2薄膜,反应溅射,硅薄膜,磁控,二氧化,蓝宝石,SiO2薄膜,磁控溅射,溅射功率,薄膜,Au导电薄膜,CdZnTe半导体,GaP,欧姆接触,射频磁控溅...
【工作单位】 西北工业大学
【曾工作单位】 西北工业大学;
【所在地域】 西安
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[1]田浩;刘正堂;冯丽萍;高倩倩;刘文婷;.退火对磁控溅射HfSi_xO_y薄膜光学性质的影响[J]光学学报.2012,(06)
[2]沈祥伟;刘正堂;李阳平;卢红成;徐启远;刘文婷;.Preparation and performance of broadband antireflective sub-wavelength structures on Ge substrate[J]Optoelectronics Letters.2009,(01)
[3]谭婷婷;刘正堂;刘文婷;.快速退火对HfO_2高k薄膜结构和电学性能的影响[J]西北工业大学学报.2010,(04)
[4]刘文婷;刘正堂;闫锋;田浩;刘其军;.氧气对磁控溅射HfO_2薄膜电学性能的影响[J]硅酸盐通报.2010,(05)
[5]闫锋;刘正堂;刘文婷;刘其军;.退火处理对Y_2O_3薄膜结构和光学性能的影响[J]材料导报.2010,(16)
[6]刘文婷;刘正堂;.CVD金刚石的红外增透和抗氧化研究[J]红外技术.2006,(07)
[7]张兴刚;刘正堂;孙金池;闫锋;刘文婷;.溅射功率对Au与CdZnTe晶体接触结构和性能的影响[J]半导体光电.2006,(05)
[8]李阳平;刘正堂;赵海龙;刘文婷;闫锋;.GaP薄膜的射频磁控溅射沉积及其计算机模拟[J]物理学报.2007,(05)
[9]许宁;刘正堂;刘文婷;沈雅明;.射频磁控溅射法制备氧化镱薄膜[J]稀有金属材料与工程.2007,(S3)
[10]鹿芹芹;刘正堂;刘文婷;张淼;.射频磁控反应溅射制备HfO_2薄膜的工艺及电性能[J]西北工业大学学报.2008,(02)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]刘文婷;刘正堂;许宁;鹿芹芹;闫锋;.HfO_2薄膜的制备与光学性能[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（1）.2007-11-01
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