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【姓名】	商世广
【职称】
【研究领域】	工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】	薄膜电极的制备与场发射器件
【发表文献关键词】	氧化铟锡薄膜,磁控溅射,方块电阻,低温等离子处理,退火温度,低温等离子体,电学性能,退火处理,可见光透过率,氨气气氛,处理方法,电阻率,溅射沉积,非晶态,光学性能,原子力显微镜,结晶度,氩气,氧气,针...
【工作单位】	西安交通大学
【曾工作单位】	西安交通大学;
【所在地域】	陕西西安

中国期刊全文数据库 共找到6篇

[1]商世广;朱长纯;.直流磁控溅射氧化铟锡薄膜的低温等离子退火研究[J]西安交通大学学报.2007,(02)

[2]于灵敏;朱长纯;商世广;潘金艳;.ZnO纳米锥光致发光性及印刷ZnO纳米锥场发射性能研究[J]功能材料.2007,(10)

[3]商世广;朱长纯;贺永宁;刘卫华;.氧化锌/银双层膜负反馈阴极电极的制备及性能研究[J]西安交通大学学报.2007,(12)

[4]商世广;朱长纯;贺永宁;.层数变化对ZnO/In_2O_3多层膜微观结构及光电性能的影响[J]功能材料与器件学报.2008,(06)

[5]商世广;朱长纯;李昕;.高温烧结和等离子轰击改善碳纳米管薄膜的场发射性能[J]西安交通大学学报.2008,(04)

[6]潘金艳;朱长纯;商世广;于灵敏;.丝网印刷碳纳米管显示器灰度失真的研究[J]西安交通大学学报.2008,(06)

中国重要会议全文数据库 共找到1篇

[1]朱长纯;商世广;.直流磁控溅射ITO薄膜的低温等离子退火研究[A].第九届真空技术应用学术年会论文集.2006-09-01

今年新增/文献篇数	核心期刊论文数	基金论文数	第一作者篇数	总被引频次	总下载频次
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