朱道云
【姓名】 朱道云
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;电力工业;
【研究方向】 电子功能材料及薄膜材料
【发表文献关键词】 压敏,电阻器,阴极真空电弧离子沉积,MgO薄膜,TiO2,电性能,椭圆偏振光谱,表面粗糙度,真空电弧离子镀,椭偏光谱,X射线衍射,ZnO薄膜,占空比,等离子体显示板(PDP),氧流量,沉积气压,原子力...
【工作单位】 中山大学
【曾工作单位】 中山大学;
【所在地域】 广东广州
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[1]朱道云;郑昌喜;陈弟虎;何振辉;.Plasma-Neutral Gas Structure in a Magnesium Cathodic Arc Operating at Oxygen Gas with Experimental Comparison[J]Plasma Science and Technology.2013,(11)
[2]朱道云;郑昌喜;王明东;陈弟虎;何振辉;.沉积气压对电弧离子镀制备MgO薄膜的结构及性能的影响[J]功能材料.2011,(07)
[3]朱道云;郑昌喜;王明东;陈弟虎;何振辉;闻立时;.脉冲偏压作用下MgO薄膜表面的荷电效应[J]真空科学与技术学报.2012,(01)
[4]朱道云;周方桥;庄严;.TiO_2系压敏陶瓷施主掺杂研究[J]电子元件与材料.2006,(02)
[5]朱道云;郑昌喜;陈弟虎;何振辉;.脉冲偏压占空比对MgO薄膜成分及结构的影响[J]华中科技大学学报(自然科学版).2007,(03)
[6]刘毅;林晓东;朱道云;陈弟虎;何振辉;.阴极真空电弧沉积MgO薄膜的椭偏光谱研究[J]中山大学学报(自然科学版).2007,(01)
[7]王明东;朱道云;郑昌喜;何振辉;陈弟虎;闻立时;.沉积气压对电弧离子镀制备ZnO薄膜的结构和性能影响[J]功能材料.2007,(06)
[8]王明东;郑婷;朱道云;何振辉;陈弟虎;闻立时;.退火对电弧离子镀制备的ZnO薄膜的影响[J]人工晶体学报.2008,(01)
[9]丁志文,朱道云,牛丽霞,梁鸿东.影响TiO_2压敏电阻器电性能的因素探讨[J]信阳师范学院学报(自然科学版).2004,(04)
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