林树汉
【姓名】 林树汉
【职称】
【研究领域】 物理学;力学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 DLC膜,砷离子,注入硅,光谱法,类金刚石碳膜,离子注,损伤层,离子注入硅,椭偏光,畸变度,激光退火,椭偏光法,退火温度,转变温度,光学常数,椭偏参数,非晶碳膜,吸收介质,层厚度,分区法,碳原子,溅射...
【工作单位】 中山大学
【曾工作单位】 中山大学;
【所在地域】
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[1]陈嘉言,陶福臻,郑庆璋,林树汉.减振与减冲击[J]中山大学学报(自然科学版).1975,(02)
[2]林树汉,莫党.用光谱法研究砷离子注入硅的退火[J]半导体学报.1982,(05)
[3]莫党,陈树光,林树汉,叶贤京,江任荣.均匀吸收介质层的椭圆偏振光谱方法及其应用[J]中山大学学报(自然科学版).1982,(01)
[4]林树汉.辉光放电无定形锗硅合金膜的红外吸收和氧的扩散[J]中山大学学报(自然科学版).1985,(02)
[5]林树汉,刘国洪.类金刚石碳膜(DLC膜)的结构、性质及其应用[J]材料科学进展.1987,(04)
[6]陈树光,林树汉.热处理对氢化非晶碳膜光学性质的影响[J]红外研究(A辑).1987,(05)
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